金属靶材/合金靶材/氧化物靶材/硅化物靶材组建溅射靶材家族介绍

溅射靶材的介绍

溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基 板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应 用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、 平面显示、太阳能电池等众多领域，不同领域需要的 靶材各不相同。按照生产方法溅射靶材可分为粉末 靶、熔炼靶和喷涂靶；按照形状可分为平面靶材和管 状靶材，平面靶材又可分为矩形靶和圆弧靶；根据成 分可分为纯金属靶材、合金靶材、氧化物靶材、硅化 物靶材等多个品种。

溅射镀膜原理

用加速的离子轰击固体表面，离子和固体表面 原子交换动量，使固体表面的原子离开固体并沉积 在基底表面，该过程即为溅射镀膜。图1为溅射镀 膜过程示意图。用靶材溅射沉积的薄膜致密度 高，与基体之间附着性好。因此，溅射沉积已成为一 种广泛应用的薄膜制备技术。

锇靶材Os纯度:3N,3N5

铼靶材Re纯度:3N5,4N

钌靶材Rua纯度:3N5

铱靶材Ir纯度:3N5

锗靶材Ge纯度:5N

铂靶材Pt纯度:3N5,4N,4N5

铒靶材Er纯度:2N5,3N,3N5

锰靶材Mn纯度:3N,3N5,4N

锌靶材Zn纯度:4N,4N5,5N

镁靶材Mg纯度:3N8,4N,5N

锂靶材Li纯度:3N

金靶材Au纯度:4N,4N5,5N

锆靶材Zr纯度:2N7~5N

铱锰合金靶材Ir+Mn纯度:3N

铂铁合金靶材Pt+Fe纯度:3N

铂镍合金靶材Pt-Ni纯度:3N5

铂钴合金靶材Pt+Co纯度:3N5

钌钽合金靶材Ru+Ta纯度:3N5

钌铬钛合金靶材Ru+Cr+Ti,纯度:3N

钌钴铬合金靶材Ru+Cr+Co纯度:3N5

金铜合金靶材Au+Cu,纯度:4N

金镍合金靶材Au+Ni纯度:4N

钯铁合金靶材Pd+Fe纯度:3N

钯银合金靶材Pd+Ag纯度:4N

银锌合金靶材Ag+Zn,纯度:4N

银铟合金靶材Ag+In纯度:4N

银锡合金靶材Ag+Sn纯度:4N

小编：axc