NANOTECHNOLOGY：电子束诱导蚀刻10纳米分辨率的图案化金刚石
金刚石是一种具有超高硬度、化学稳定性和机械强度等独特性能材料，同时具有极高的透明度和优异的导热性。此外，金刚石是一种宽带隙半导体，工作温度高达500℃。它在室温下具有5.47eV的带隙，其表面可以被功能化以获得负电子亲和势。由于这些物理特性与容纳氮空位发光中心（NV）能力的结合，金刚石是最有希望作为下一代传感、纳米光子和量子信息器件的平台之一。
近日，德国杜伊斯堡-埃森大学的Dergianlis, Vasilis等人报告了一种无掩模、高分辨率的金刚石表面蚀刻，尺寸低至10纳米。利用扫描电子显微镜（SEM）与水蒸气的共同作用，水蒸气通过针头直接注射到样品表面上。使用这种多功能低损伤技术，蚀刻了不同深度的沟槽。通过聚焦离子束铣削获得每个沟槽的横截面并用于计算所获得的纵横比。该技术为纳米光学和电子应用提供了一种无掩模、无抗蚀剂的金刚石刻蚀方法。相关研究结果以“Patterning ofdiamond with 10 nm resolution by electron-beam-induced etching”为题发表在《NANOTECHNOLOGY》上。
赞 (0)