2021新版《日本化学镀铜药剂制造工艺配方精选汇编》
国际新技术资料网出品
1 無電解銅めっき浴 上村工業株式会社
2 銅微粒子分散液及び透明導電回路の作製方法 石原ケミカル株式会社
3 繊維の銅めっき方法 名古屋メッキ工業株式会社
4 アルミニウムへの耐接触腐食性に優れた銅合金材及び端子 株式会社神戸製鋼所
5 無電解銅または銅合金めっき浴およびこれらを用いた回路基板の製造方法 株式会社ＪＣＵ
6 無電解銅メッキ用の銅コロイド触媒液並びに無電解銅メッキ方法 石原ケミカル株式会社
7 無電解銅めっきおよび無電解銅めっきの析出に用いられた触媒の除去液およびその用途 株式会社ＪＣＵ
8 銀銅被覆粉体、銀銅被覆粉体の製造方法 住友金属鉱山株式会社
9 ニッケル銅被覆粉体、ニッケル銅被覆粉体の製造方法 住友金属鉱山株式会社
10 無電解銅メッキ方法及び当該方法を用いたプリント配線板の製造方法 石原ケミカル株式会社
11 銅めっき液及び銅めっき方法 上村工業株式会社
12 Ｓｎコート銅粉及びそれを用いた導電性ペースト、並びにＳｎコート銅粉の製造方法 住友金属鉱山株式会社
13 キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 ＪＸ金属株式会社
14 銅粉末、銅ペースト、導電性塗膜の製造方法及び導電性塗膜 戸田工業株式会社
15 表面処理銅箔、キャリア付銅箔、基材の製造方法、プリント配線板の製造方法、プリント回路板の製造方法、銅張積層板の製造方法 ＪＸ金属株式会社
16 無電解銅メッキ用の銅コロイド触媒液並びに無電解銅メッキ方法 石原ケミカル株式会社
17 レーザー加工用銅膜形成用組成物、配線基板の製造方法、および電子機器 ＪＳＲ株式会社
18 銅膜形成用組成物及び銅膜の製造方法 新日鉄住金化学株式会社
19 銅膜形成用組成物及び銅膜の製造方法 新日鉄住金化学株式会社
20 銅被膜形成剤およびその利用 四国化成工業株式会社
21 銅膜形成用組成物及びそれを用いた銅膜の製造方法 株式会社ＡＤＥＫＡ
22 銅膜形成用組成物及びそれを用いた銅膜の製造方法 株式会社ＡＤＥＫＡ
23 配線構造体の製造方法、銅置換めっき液および配線構造体 学校法人 関西大学
24 銅膜形成用組成物、銅膜、回路基板、半導体パッケージおよび電子機器 ＪＳＲ株式会社
25 めっき液およびその製造方法、並びに、複合材料、銅複合材料およびその製造方法 国立大学法人信州大学
26 銅膜形成用組成物、銅膜形成方法、銅膜、配線基板および電子機器 ＪＳＲ株式会社
27 表面処理銅箔、銅張積層板、プリント配線板、電子機器、半導体パッケージ用回路形成基板、半導体パッケージ及びプリント配線板の製造方法 ＪＸ日鉱日石金属株式会社
28 銅膜形成用組成物及びそれを用いた銅膜の製造方法 株式会社ＡＤＥＫＡ
29 無電解銅メッキ用の水系銅コロイド触媒液並びに無電解銅メッキ方法 石原ケミカル株式会社
30 銅被膜形成剤および銅被膜の形成方法 四国化成工業株式会社
31 銅系膜形成方法、銅系膜形成材料 気相成長株式会社
32 銅薄膜形成組成物 新日鉄住金化学株式会社
33 銅膜形成用組成物及びそれを用いた銅膜の製造方法 株式会社ＡＤＥＫＡ
34 無電解銅めっき液 ローム・アンド・ハース電子材料株式会社
35 銅膜形成用組成物、銅膜形成方法、銅膜、配線基板および電子機器 ＪＳＲ株式会社
36 銅メタライズ配線セラミック基板及びその製造方法 ニッコー株式会社
37 銅被膜形成剤及び銅被膜の形成方法 四国化成工業株式会社
38 無電解銅メッキ方法 石原ケミカル株式会社
39 無電解銅めっき浴及び無電解銅めっき方法 上村工業株式会社
40 液状組成物、金属銅膜、及び導体配線、並びに金属銅膜の製造方法 富士フイルム株式会社
41 銅膜形成用組成物及び該組成物を用いた銅膜の製造方法 株式会社ＡＤＥＫＡ
42 プリント配線板の製造方法及びレーザー加工用銅箔 三井金属鉱業株式会社
43 銅系粒子堆積層を短時間で導体化して得られる金属銅膜、金属銅パターン及びその製造方法 日立化成株式会社
44 前処理液を用いた無電解銅メッキ方法 石原ケミカル株式会社
45 銅パターン形成用組成物及び銅パターンの製造方法 日油株式会社
46 無電解銅めっき浴 新光電気工業株式会社
47 無電解銅めっき液及び無電解銅めっき方法 メルテックス株式会社
48 銅合金製配管器材のカドミウム溶出防止方法とこれを用いた銅合金製配管器材 株式会社キッツ
49 銅合金製配管器材のカドミウム溶出防止方法とこれを用いた銅合金製配管器材並びに皮膜形成剤 株式会社キッツ
50 銅含有組成物、金属銅膜の製造方法、および金属銅膜 東ソー株式会社
51 金属銅膜の作製方法及び印刷金属銅パターン 日立化成株式会社
52 銅膜形成用組成物及び該組成物を用いた銅膜の製造方法 株式会社ＡＤＥＫＡ
53 回路基板およびその製造方法、銅箔の形成方法 富士通株式会社
54 銅合金製配管器材のカドミウム溶出防止方法とこれを用いた銅合金製配管器材 株式会社キッツ
55 フレキシブル銅張積層板及びその製造方法並びにそれを用いた配線基板 株式会社寺岡製作所
56 無電解めっき前処理剤及びフレキシブル基板用銅張り積層体 ＪＸ日鉱日石金属株式会社
57 高分子繊維の無電解銅めっき方法 名古屋メッキ工業株式会社
58 銅合金微粒子分散液、焼結導電体の製造方法、及び焼結導電体、並びに導電接続部材 古河電気工業株式会社
59 切欠構造のなかで長尺状ルテニウム膜上に多段階式銅鍍金を行う方法。 東京エレクトロン株式会社
60 金属銅膜及びその製造方法、金属銅パターン及びそれを用いた導体配線、金属銅バンプ、熱伝導路、接合材、並びに液状組成物 日立化成株式会社
61 フレキシブル銅張積層板及びＣＯＦ用フレキシブルプリント配線板並びにこれらの製造方法 三井金属鉱業株式会社
62 窒化銅膜の形成方法 新光電気工業株式会社
63 厚付け用の無電解銅めっき装置、厚付け用の無電解銅めっき方法及び多層プリント配線板の製造方法 日立化成株式会社
64 自己組織化単分子膜形成方法、ならびに半導体素子の銅配線およびその形成方法 ハイニックス セミコンダクター インク
65 銅薄膜形成用組成物および該組成物を用いた銅薄膜の製造方法 株式会社ＡＤＥＫＡ
66 銅の表面処理剤および表面処理方法、並びに銅表面の皮膜 日本ペイントホールディングス株式会社
67 無電解銅めっき液用添加剤及びそれを用いた無電解銅めっき液 三菱製紙株式会社
68 湿式処理方法，無電解銅めっき方法およびプリント配線板 株式会社日立製作所
69 無電解銅めっき液およびその管理方法 日立化成株式会社
70 無電解置換めっきにより銅薄膜を形成しためっき物 ＪＸ日鉱日石金属株式会社
71 無電解めっきにより銅薄膜を形成しためっき物 ＪＸ日鉱日石金属株式会社
72 無電解銅メッキ方法、プリント配線板、プリント配線板製造方法、半導体装置 住友ベークライト株式会社
73 銅膜形成方法及び配線基板 新光電気工業株式会社
74 銅前駆体組成物およびそれを用いた銅膜の製造方法。 東レ株式会社
75 銅めっき膜およびその製造方法 セイコーエプソン株式会社
76 銅膜の形成方法 新光電気工業株式会社
77 銅拡散防止用バリア膜、同バリア膜の形成方法、ダマシン銅配線用シード層の形成方法及びダマシン銅配線を備えた半導体ウェハー ＪＸ日鉱日石金属株式会社
78 銅導体膜及びその製造方法、導電性基板及びその製造方法、銅導体配線及びその製造方法、並びに処理液 日立化成株式会社
79 無電解銅めっき液用添加剤及びそれを用いた無電解銅めっき液 三菱製紙株式会社
80 電気銅めっき方法 奥野製薬工業株式会社
81 無電解銅めっき液及び無電解銅めっき方法 新光電気工業株式会社
82 線状材の銅めっき方法および銅めっきワイヤ 株式会社神戸製鋼所
83 無電解銅めっき液、ダマシン銅配線形成方法、及びこの方法を用いてダマシン銅配線を形成した半導体ウェハー ＪＸ日鉱日石金属株式会社
84 組成物及び銅膜の形成方法 東ソー株式会社
85 ダマシン銅配線用シード層形成方法、及びこの方法を用いてダマシン銅配線を形成した半導体ウェハー ＪＸ日鉱日石金属株式会社
86 銅薄膜形成材料および銅薄膜形成方法 ＪＳＲ株式会社
87 無電解銅めっき膜形成セラミックスおよび無電解めっき膜形成セラミックスの製造方法 アルプス電気株式会社
88 無電解銅めっき方法 アルプス電気株式会社
89 銅膜の形成方法 新光電気工業株式会社
90 無電解銅めっき浴用反応促進剤 株式会社ＪＣＵ
91 亜酸化銅膜に金属銅層を形成する方法 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所
92 高密度銅パターンを有したプリント配線板の製造方法 株式会社ＪＣＵ
93 無電解銅めっき方法 日立化成株式会社
94 無電解銅めっき被膜形成方法 株式会社日本表面処理研究所
95 無電解銅めっき膜の密着性改善方法 アルプス電気株式会社
96 無電解銅めっき廃液の電解処理装置及びその電解処理方法 有限会社ＥＳアドバイザー
97 銅張積層板およびプリント配線板 株式会社カネカ
98 無電解めっき前処理剤及びフレキシブル基板用銅張り積層体 ＪＸ日鉱日石金属株式会社
99 多層フレキシブルプリント基板の無電解銅メッキ方法 日本メクトロン株式会社
100 無電解銅めっき液及び無電解銅めっき方法 新光電気工業株式会社
101 化学銅めっき装置における析出銅膜厚管理装置 株式会社日立コミュニケーションテクノロジー