南开大学Jun Yin课题组--在石墨烯上消除PMMA残留的方法——超净石墨烯

石墨烯作为一种很有前途的2D材料，由于其独特的性能而被广泛研究。将CVD石墨烯从其原始金属箔转移到其他基材上对于其实际应用很重要。然而，在转移过程中通常用作支撑介体的PMMA的去除是麻烦的，因为PMMA分子会干扰石墨烯的基本性能，而常规的丙酮处理无法从石墨烯表面完全去除PMMA。最早将热退火处理用于清洁PMMA残留物，而等离子体和离子束处理通常具有较高的清洁效率。与其他技术相比，光处理相对温和，并且依赖于特定材料和污染物之间的相互作用。机械处理可以简单地达到显着的清洁效果，并拥有光明的未来。在这篇综述中，我们详细总结了当前减少PMMA残留物的方法，并对它们背后的机理进行了系统地讨论。

Figure 1. 在转移后的石墨烯上消除PMMA残留物的典型方法

Figure 2. （a）通过3D模型，拉曼光谱和高分辨率透射电子显微镜（HRTEM）图像说明了O₂处理后缺陷的形成；（b）在各种气氛下，处理退火后样品的拉曼光谱中的D和G峰；（c）CO₂与缺陷和石墨烯反应的能垒。

Figure 3. 指示石墨烯-PMMA复合层的转移过程。

Figure 4. 等离子体反应器示意图。

Figure 5. 具有不同时间和功率变量的FLG的ICP/CCP处理过程中等离子体行为和结果示意图：（a）石墨烯在CCP放电前被残留物覆盖；（b）CCP处理后；（c）在ICP放电之前被残留物覆盖的石墨烯；（d）经ICP处理后的FLG；（c,e-g）FLG用低密度ICP处理的程序。

相关研究成果于2021年由南开大学Jun Yin课题组，发表在Carbon（https://doi.org/10.1016/j.carbon.2020.11.047）上。原文：Ways to eliminate PMMA residues on graphene dd superclean graphene。