一文了解半导体制造常用化学品
半导体制造过程中常用的酸
半导体制造过程中常用的碱
半导体制造过程中常用的溶剂
半导体制造过程中常用的通用气体
半导体制造过程中常用的特种气体
硅片湿法清洗化学品
典型的硅片湿法清洗顺序
还有光刻胶、研磨液等。NTI(negative tone image)的显影液等。
来源:半导体光刻技术
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