总投资3.6亿元，年产6万大片！维信诺的硅基OLED也要来了

4月7日，“昆山梦显电子科技有限公司OLED微显示器生产项目”在昆山市人民政府网站上进行了环境影响评价报批前公示。

公示文件指出，昆山梦显电子科技有限公司成立于 2018 年 12 月，企业位于江苏省昆山高新区晨丰路 188号 3 号房，属昆山维信诺科技有限公司子公司。公司经营范围：平板显示器件的研发、生产、销售；电子产品及其零配件、电子专用材料的销售及组装，并提供售后及相关咨询服务；货物或技术进出口业务。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）。公司拟在昆山高新区晨丰路 188 号 3 号房投资 3.6亿元整，进行 OLED 微显示器生产项目，拟购置大蒸镀设备、清洗机等设备。项目完成后，预计年产 OLED 微显示器 60000 大片。

图片来源：昆山市人民政府网

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本项目工艺流程如下：

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工艺流程说明：

(1)清洗烘干

利用蒸镀前清洗机清洗掉背板上沾染的少量灰尘颗粒物，清洗过程中不添加酸、碱等清洗剂、添加剂等化学试剂，清洗流量为30L/min，年清洗时间为2400h/a，清洗用纯水定期更换，此过程会产生清洗水；

(2)蒸镀

小分子有机薄膜采用真空蒸镀法沉积成膜。其具体操作是在真空中加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到Wafer的表面，凝结形成固态薄膜，加热方式为电阻丝加热，根据不同材料温度设置在100-400℃之间。本项目蒸镀工艺中，各种有机材料HIL、NPB、HD及红、蓝、绿发光有机材料大部分通过加热蒸镀到器件上，成为器件（产品）的组成部分；微量蒸镀到真空腔室的内璧，通过无尘布用无水乙醇擦拭，蒸镀设备真空泵需定期更换真空泵油，此过程会产生擦拭废布、真空泵油、噪声；

(3)ALD沉积、CVD沉积

原子层沉积（Atomiclayerdeposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法；化学气相沉积(CVD)是指将两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上的方法，该过程原子层沉积设备、化学气相沉积设备，在450℃的高温下，通过流量控制器精准控制加入三甲基铝、四氯化钛、SiH4、NH3、N2、O2、N2O、NF3等气体，在电场作用下进行等离子体放电发生化学反应并进行薄膜的沉积，本项目根据不同工艺要求需进行加热，ALD沉积采用电阻丝加热，温度为90℃，CVD沉积采用温水间接加热，温度为80℃。

ALD沉积原理为：三甲基铝经过氧化形成三氧化二铝薄膜层，副产物为二氧化碳和氢气，未反应的三甲基铝为有毒气体，连同气态副产物最终以有毒废气的形式通过POU设施处理，再经过布袋除尘设施和喷淋塔处理后外排，三甲基铝为易燃气体，基本完全燃烧；

CVD沉积原理为：通过反应气体NH3、SiH4、NF3（携带气体N2、H2、Ar）的化学反应，在基片上沉积氧化硅，氮化硅作为绝缘层、钝化层薄膜。在CVD工序的反应器中，反应气体与携带气体不断流过反应室，大部分反应气体经过反应消耗并生产气态副产物，未反应的气体由于混入大量废气，成分复杂，难以回收利用，通过排气管道排到特殊的气体处理设备(scrubber)以天然气为燃烧源进行燃烧处理，尾气再通过布袋除尘设施和喷淋洗涤塔处理。主要反应式如下：

(4)点胶、贴合、固化

把镀膜后的基片（膜层向内）和无导电层的基片用封装胶进行点胶，之后用紫外线（固化），在此过程中UV胶全部进入产品，此过程会产生噪声，废包装桶；

(5)切割打线

将制得的显示器件按需要切割成为显示屏成品。在电子模块工作间，将外购的电路板和芯片等焊接，并与显示屏相连，制得最终的显示器成品，此过程会产生噪声、废玻璃；

(​6)测试、模组

显示器经过测试模组后即为成品，测试过程中会产生不合格品，经过重复修复后即可，此工序会产生噪声。

在生产过程中，治具上会沾染到油污、灰尘等杂质，需利用Mask清洗机及SMIF清洗机进行浸泡清洗，清洗用到N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP）、异丙醇、丙酮、乙醇等有机溶剂，此过程会产生废有机溶剂和有机废气。